光催化劑實(shí)驗室納米分散機

光催化劑實(shí)驗室納米分散機

一、產(chǎn)品名稱(chēng)概述：光催化劑超高速分散機,光催化劑納米分散機,光催化劑高剪切分散機,光催化劑管線(xiàn)式分散機,光觸媒超高速分散機

二、光催化劑的簡(jiǎn)介

通俗意義上講觸媒就是催化劑的意思，光觸媒顧名思義就是光催化劑。催化劑是改變化學(xué)反應速率的化學(xué)物質(zhì)，其本身并不參與反應。光催化劑就是在光子的激發(fā)下能夠起到催化作用的化學(xué)物質(zhì)的統稱(chēng)。

三、光催化劑材料的種類(lèi)

世界上能作為光觸媒的材料眾多，包括二氧化鈦,氧化鋅),氧化錫二氧化鋯，硫化鎘等多種氧化物硫化物半導體，其中二氧化鈦因其氧化能力強，化學(xué)性質(zhì)穩定無(wú)毒，成為世界上當紅的納米光觸媒材料。在早期，也曾經(jīng)較多使用硫化鎘和氧化鋅作為光觸媒材料，但是由于這兩者的化學(xué)性質(zhì)不穩定，會(huì )在光催化的同時(shí)發(fā)生光溶解，溶出有害的金屬離子具有一定的生物毒性，故發(fā)達國家目前已經(jīng)很少將它們用作為民用光催化材料，部分工業(yè)光催化領(lǐng)域還在使用。

二氧化鈦是一種半導體，分別具有銳鈦礦，金紅石及板鈦礦三種晶體結構，其中只有銳鈦礦結構和金紅石結構具有光催化特性。

四、光催化原理

因為生產(chǎn)光催化劑的材料幾乎都是固體半導體材料，因此光催化又稱(chēng)為半導體光催化。光催化氧化的機理是用固體能帶理論來(lái)解釋的。

根據固體能帶理論，固體材料的能帶結構可以分為價(jià)帶、禁帶和導帶三部分。導體的導帶和價(jià)帶發(fā)生了重合即其禁帶寬度為零，所以導體可以導電;絕緣體的禁帶寬度很大以至于價(jià)帶的電子很難被激發(fā)使其躍遷至導帶，所以絕緣體不導電;半導體的禁帶寬度介于導體與絕緣體之間，所以其在一定條件下可以導電。

在半導體中，所有價(jià)電子所處的能帶就是所謂的價(jià)帶，比價(jià)帶能量更高的能帶便是導帶，介于價(jià)帶和導帶之間的空隙稱(chēng)之為禁帶。光催化氧化過(guò)程簡(jiǎn)單的說(shuō)就是價(jià)帶上的電子受到光照的激發(fā)躍遷至導帶，形成了電子和空穴，形成的電子-空穴對又引發(fā)了其他的一系列的反應。

五、光催化劑材料的分散

光催化材料應用中，一般需要將二氧化鈦分散到液體基料中，形成懸浮液，需要對光催化劑體系進(jìn)行研磨分散，使懸浮液(或乳化液)體系中的分散物微?；?、均勻化的處理過(guò)程，這種處理同時(shí)起降低分散物尺度和提高分散物分布均勻性的作用，使得光催化劑產(chǎn)品更穩定。結合多家客戶(hù)案例，推薦XMD2000系列超高速研磨分散機，兩級結構，先研磨后分散，轉速0-18000rpm，研磨分散效果好，粒徑小，均勻度高?；蚺问叫×糠稚CLD-1L。

設備參數

電源220V，50/60Hz

蕞小允許攪拌量300ml

蕞小允許乳化量500ml

蕞大允許乳化量1000ml

蕞高工作溫度120℃

可達到真空-0.0975Mpa

蕞大處理粘度100,000CP

攪拌馬達功率50W

攪拌速度范圍10-200rpm

攪拌槳配置錨式螺帶刮壁攪拌槳

刮板材質(zhì)PTFE

均質(zhì)馬達功率500W

均質(zhì)速度范圍10000-28000rpm

均質(zhì)工作頭配置20DG

反應釜蓋開(kāi)口均質(zhì)機口+料斗口+測溫口+真空口+3個(gè)功能口

升降支架行程210

與物料主要接觸材質(zhì)SS316L、硼硅玻璃、FKM

真空口外徑10

玻璃釜夾套進(jìn)、出口外徑12

允許環(huán)境溫度5-40℃

允許相對濕度80%

外形尺寸470×420×1200

標配重量~35kg

光催化劑實(shí)驗室納米分散機